किसी लक्ष्य की सतह की सफाई किसी भी धूल या गंदगी से छुटकारा पाने के लिए की जाती है। धातु के लक्ष्यों को साफ करने के लिए चार चरणों का उपयोग किया जा सकता है:
सफाई शुरू में एसीटोन से लथपथ, रोएं से मुक्त मुलायम कपड़े का उपयोग करके की जाती है;
अल्कोहल से साफ़ करने के लिए, दूसरी प्रक्रिया पहले के समान है;
विआयनीकृत पानी से सफाई करना तीसरा चरण है। विआयनीकृत पानी से साफ करने के बाद लक्ष्य को 100 डिग्री सेल्सियस पर 30 मिनट के लिए ओवन में सुखाया जाना चाहिए। ऑक्साइड और सिरेमिक लक्ष्य को साफ करने के लिए, "लिंट-फ्री कपड़े" की सलाह दी जाती है।
किसी भी अशुद्धता से छुटकारा पाने के लिए चौथे चरण में लक्ष्य को उच्च दबाव, कम नमी वाले आर्गन से प्रवाहित किया जाता है, जिससे स्पटरिंग प्रणाली में जलन हो सकती है।
कृपया सुनिश्चित करें कि लक्षित सामग्री का उपयोग करने से पहले आपके हाथ साफ और लिंट-मुक्त हों। कभी भी अपना हाथ सीधे लक्षित पदार्थ पर न रखें।
स्पटरिंग प्रक्रिया के दौरान गंदे कैविटी के कारण होने वाले शॉर्ट सर्किट और आर्किंग को रोकने के लिए स्पटरिंग ट्रैक के केंद्र और दोनों किनारों पर जमा हुए छींटों को धीरे-धीरे हटाया जाना चाहिए। यह उपयोगकर्ता को अधिकतम पावर घनत्व पर लगातार काम करने में भी सक्षम बनाता है। स्पटरिंग.
