99.99 प्रतिशत टैंटलम ऑक्साइड

99.99 प्रतिशत टैंटलम ऑक्साइड के भौतिक और रासायनिक गुण

99.99 प्रतिशत टैंटलम ऑक्साइड विनिर्देशों और पैकेजिंग:

1, हम उपयोगकर्ताओं की आवश्यकताओं के अनुसार विभिन्न विनिर्देशों को संसाधित और ऑर्डर कर सकते हैं।

2, पैकेजिंग: लकड़ी के बक्से या उपयोगकर्ता की आवश्यकताओं के अनुसार, बैग और बैरल में विभाजित।

99.99 प्रतिशत टैंटलम ऑक्साइड अनुप्रयोग:

मुख्य रूप से लेपित सामग्री, इलेक्ट्रो-ऑप्टिक्स के लिए उपयोग किया जाता है। 10-2 Pa के निर्वात के तहत वाष्पीकरण तापमान 192 0 डिग्री है। इसे टैंटलम, टंगस्टन नावों और वाष्पीकरण के लिए कॉइल या वाष्पीकरण के लिए टंगस्टन क्रूसिबल द्वारा इलेक्ट्रॉन बीम के साथ अच्छे परिणाम के साथ गर्म किया जा सकता है। गरम करना। टैंटलम ऑक्साइड फिल्मों में 0.3 से 10 माइक्रोन का एक पारदर्शी क्षेत्र होता है और n=2.25 (λ=0.4 माइक्रोन) और n=2.1 (λ{{12) का अपवर्तक सूचकांक होता है। }}.55 माइक्रोन, टीएस =250 डिग्री)। Ta2O5 कोटिंग्स का उपयोग हस्तक्षेप कोटिंग्स में एक उच्च अपवर्तक सूचकांक फिल्म सामग्री के रूप में किया जा सकता है, और उनके यांत्रिक गुण बेहद मजबूत होते हैं और मजबूत क्षार उन्हें खराब नहीं करते हैं। इसका उपयोग सुरक्षात्मक कोटिंग के रूप में भी किया जा सकता है, विशेष रूप से उच्च तापमान वाले वातावरण में अनुप्रयोगों के लिए।

थर्मल ऑक्सीकरण, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, डीसी स्पटरिंग, प्रतिक्रियाशील मैग्नेट्रॉन डीसी स्पटरिंग, आरएफ स्पटरिंग, प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग, प्रतिक्रियाशील आरएफ स्पटरिंग, आयन बीम स्पटरिंग, आयन प्लेटिंग, आयन-सहायता प्राप्त वर्षा और एनोडिक जैसे विभिन्न तरीकों को लागू करके पतली फिल्में तैयार की जा सकती हैं। ऑक्सीकरण।

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