संक्षारण प्रतिरोधी टैंटलम प्लेट

टैंटलम में उत्कृष्ट रासायनिक गुण हैं और ठंड और गर्म दोनों स्थितियों में जंग के लिए बेहद प्रतिरोधी है, और हाइड्रोक्लोरिक एसिड, केंद्रित नाइट्रिक एसिड और एक्वा रेगोस पर प्रतिक्रिया नहीं करता है। 150 डिग्री से नीचे, टैंटलम को केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड द्वारा संक्षारित नहीं किया जाएगा, और केवल इस तापमान से ऊपर प्रतिक्रिया करेगा। 250 डिग्री पर, संक्षारण दर में वृद्धि हुई, प्रत्येक वर्ष के लिए 0.116 मिमी की मोटाई से 300 डिग्री पर, जंग की गति अधिक तेज हो गई, 1 वर्ष भिगो दी गई, सतह को 1.368 मिमी खराब कर दिया गया। फ्यूमिंग सल्फ्यूरिक एसिड (15 प्रतिशत SO3 युक्त) में जंग की दर केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड की तुलना में अधिक गंभीर होती है, जिसे 1 साल के लिए 130 डिग्री पर घोल में भिगोया जाता है, सतह को 15.6 मिमी की मोटाई से जंग लगा दी जाती है। उच्च तापमान पर फॉस्फोरिक एसिड द्वारा टैंटलम का भी क्षरण होता है, लेकिन प्रतिक्रिया आमतौर पर 150 डिग्री तक होती है। 250 डिग्री पर 85 प्रतिशत फॉस्फोरिक एसिड में, 1 वर्ष के लिए डूबे रहने पर सतह 20 मिमी से क्षत-विक्षत हो जाती है। हालांकि, टैंटलम मजबूत ठिकानों से ज्यादा डरता है। कास्टिक सोडा के घोल में 40 प्रतिशत की एकाग्रता 110 डिग्री पर, टैंटलम तेजी से भंग हो जाएगा, और पोटेशियम हाइड्रॉक्साइड समाधान में एक ही एकाग्रता के लिए, यह 100 डिग्री तक तेजी से भंग हो जाएगा। उपर्युक्त मामलों के अलावा, सामान्य अकार्बनिक लवण आमतौर पर 150 डिग्री से नीचे टैंटलम को खराब नहीं कर सकते हैं। प्रयोगों से पता चला है कि टैंटलम कमरे के तापमान पर क्षारीय समाधान, क्लोरीन गैस, ब्रोमीन पानी, पतला सल्फ्यूरिक एसिड और कई अन्य एजेंटों पर प्रतिक्रिया नहीं करता है, ऐसी स्थिति धातुओं के बीच अपेक्षाकृत दुर्लभ है।

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