स्पटरिंग टैंटलम लक्ष्य

स्पटरिंग टैंटलम लक्ष्य

लक्ष्य सामग्री उच्च गति चार्ज ऊर्जा कण बमबारी के लिए लक्ष्य सामग्री है। विभिन्न लक्ष्य सामग्रियों (जैसे एल्यूमीनियम, तांबा, स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम, निकल लक्ष्य, आदि) को प्रतिस्थापित करके, विभिन्न फिल्म सिस्टम प्राप्त किए जा सकते हैं (जैसे सुपर हार्ड, पहनने के लिए प्रतिरोधी, जंग-रोधी मिश्र धातु फिल्म, आदि)। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स और सूचना उद्योग में किया जाता है, जैसे एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरण, आदि; इसका उपयोग ग्लास कोटिंग के क्षेत्र में भी किया जा सकता है; इसे पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध, उच्च ग्रेड सजावटी आपूर्ति और अन्य उद्योगों पर भी लागू किया जा सकता है।
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उत्पाद का परिचय

 

स्पटर किए गए टैंटलम लक्ष्यों को उनके आकार के अनुसार वर्गाकार लक्ष्य, गोल लक्ष्य और आकार के लक्ष्य में विभाजित किया जा सकता है। मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग एक नई भौतिक वाष्प चरण कोटिंग विधि है जिसमें कई मामलों में बाष्पीकरणीय कोटिंग विधियों पर काफी फायदे हैं। एक परिपक्व तकनीक के रूप में, मैग्नेट्रोन स्पटरिंग को कई क्षेत्रों में लागू किया गया है। यह एक आयन स्रोत द्वारा उत्पन्न आयनों का उपयोग करता है, जिन्हें त्वरित किया जाता है और एक उच्च गति ऊर्जा आयन किरण बनाने के लिए वैक्यूम में इकट्ठा किया जाता है जो एक ठोस सतह पर बमबारी करता है, जहां ठोस सतह पर आयन और परमाणु गतिज ऊर्जा का आदान-प्रदान करते हैं, जिससे परमाणुओं पर परमाणु प्रभाव पड़ता है। ठोस सतह को ठोस छोड़ने और सब्सट्रेट सतह पर जमा करने के लिए।

 

अर्धचालक एकीकृत सर्किट, सौर फोटोवोल्टिक्स, रिकॉर्डिंग मीडिया, फ्लैट पैनल डिस्प्ले और वर्कपीस सतह कोटिंग्स के लिए विभिन्न प्रकार की स्पटर वाली पतली फिल्म सामग्री का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। तांबे के लक्ष्य - प्रवाहकीय परतें, उच्च शुद्धता वाली तांबे की सामग्री का उपयोग उनके बहुत कम प्रतिरोध के कारण प्रौद्योगिकी के 110 एनएम से कम हिस्से में वायरिंग सामग्री के रूप में बड़ी मात्रा में किया जाता है, जो चिप एकीकरण में सुधार के लिए बहुत प्रभावी है।

उत्पाद विवरण

ब्रांड

युशेंग धातु

प्रोडक्ट का नाम

टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य

पवित्रता

99.95%

घनत्व

95-99%

विनिर्देश

लंबाई<300 mm ; Width<300 mm Diameter<300 mm; Thickness<1 mm

सहनशीलता

±0.1मिमी

सतह

3.2 रा

MOQ

1 किलो

 
हमारे स्पटरिंग टैंटलम लक्ष्य
 

बाओजी युशेंग मेटल टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेड

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टैंटलम लक्ष्य अनुप्रयोग

संधारित्र
हर साल खपत होने वाले टैंटलम का लगभग आधा हिस्सा इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में उपयोग किया जाता है, मुख्य रूप से कैपेसिटर के लिए पाउडर और तारों के रूप में। टैंटलम कैपेसिटर को अंतरिक्ष-संवेदनशील उच्च-स्तरीय अनुप्रयोगों जैसे दूरसंचार, डेटा भंडारण और प्रत्यारोपण योग्य चिकित्सा उपकरणों में पसंद किया जाता है।

इंजन टरबाइन ब्लेड
धातु का उच्च गलनांक और संक्षारण प्रतिरोध इसे मिश्रधातु अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है। टैंटलम का उपयोग निकल-आधारित उच्च तापमान मिश्र धातुओं के लिए एक योजक के रूप में भी किया जाता है, और इसका मुख्य अनुप्रयोग विमान इंजन और भूमि-आधारित गैस टर्बाइनों के लिए टरबाइन ब्लेड है।

रासायनिक प्रसंस्करण उपकरण
टैंटलम का उच्च संक्षारण प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रतिरोध धातु को रासायनिक और दवा उद्योगों में कंटेनर, पाइप, वाल्व और हीट एक्सचेंजर लाइनिंग के लिए एक आदर्श संरचनात्मक सामग्री बनाता है।

टैंटलम लक्ष्य मिश्र धातु श्रृंखला
टैंटलम लक्ष्यों के अलावा, हम टैंटलम सिलिकॉन मिश्र धातु, टैंटलम एल्यूमीनियम मिश्र धातु, टैंटलम टंगस्टन मिश्र धातु, निकल टैंटलम मिश्र धातु, कोबाल्ट ज़िरकोनियम टैंटलम मिश्र धातु, टैंटलम नाइट्राइड, टैंटलम कार्बाइड, टैंटलम बोराइड, टैंटलम पेंटोक्साइड इत्यादि जैसे स्पटरिंग लक्ष्य भी प्रदान कर सकते हैं।

उत्पाद दिखाएँ

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उपकरण प्रदर्शन

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