
नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य
2.प्रतीक: नायब
3. परमाणु वजन: 92.90638
4. परमाणु संख्या: 41
5.Z अनुपात:0.492
6. स्पटर: डीसी
7.अधिकतम पावर डेंसिटी*(वाट/स्क्वायर इंच):100
8. बॉन्ड का प्रकार: इंडियम, इलास्टोमेर
9. टिप्पणियाँ: डब्ल्यू स्रोत पर हमला करता है।
10. रंग / रूप: ग्रे, धातुई
11. तापीय चालकता: 54 W/mK
12. गलनांक (डिग्री): 2,468
13. थर्मल विस्तार का गुणांक: 7.3 x 10-6/के
आवर्त सारणी का समूह 5 धातु, नाइओबियम, एक चमकदार, ग्रे, नमनीय, अनुचुंबकीय धातु है (तालिका देखें), इसके सबसे बाहरी गोले में इलेक्ट्रॉनों का एक असामान्य विन्यास है। (यह पैलेडियम (45), रोडियम (45), और रूथेनियम (44) (46) के आसपास के क्षेत्र में देखा जाता है। टी=0} के से इसके पिघलने बिंदु तक, यह माना जाता है कि इसमें शरीर-केंद्रित घन है। क्रिस्टल संरचना। तीन क्रिस्टलोग्राफिक अक्षों के साथ थर्मल विस्तार को उच्च रिज़ॉल्यूशन के साथ मापा गया है, और परिणाम अनिसोट्रॉपी दिखाते हैं जो क्यूबिक संरचना के अनुरूप नहीं हैं। इसलिए, इस क्षेत्र में अधिक अध्ययन प्रत्याशित है।
नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य के बारे में विवरण
शुद्धता: 99.95 प्रतिशत;
सर्कुलर: डायमीटर: 16 इंच; ब्लॉक: लंबाई: 32 इंच; चौड़ाई: 12 इंच; मोटाई: 1 मिमी;
लक्ष्य के प्रकार: प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य, रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य।

नाइओबियम स्पटरिंग टारगेट के लिए उपयोग में शामिल हैं: आर्किटेक्चरल ग्लास, फाइबर ऑप्टिक्स, ऑप्टिकल फ्लिम्स और वियर कोटिंग्स।
विशेषताएं: अच्छी शुद्धता; परिष्कृत अनाज (औसत अनाज का आकार लगभग 40 उम)
बनाने का तरीका
1. शोधन
इलेक्ट्रॉन बीम पिघलने के कई चरणों के बाद रोलिंग और एनीलिंग, सफाई और अंतिम पैकिंग होती है।
पर्यावरण विषाक्त पदार्थों के खिलाफ सुरक्षा
शिपिंग के दौरान सुरक्षा
2.विकल्प
स्पटरिंग टारगेट बॉन्डिंग सर्विस; 99.95 प्रतिशत न्यूनतम शुद्धता; आर एंड डी अनुप्रयोगों के लिए छोटे आकार की भी पेशकश की गई
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| वाष्पीकरण सामग्री नाइओबियम वाष्पीकरण गोली नाइओबियम ऑक्साइड वाष्पीकरण गोली |
क्रूसिबल N/A |
धातु पाउडर नाइओबियम पाउडर गोलाकार नाइओबियम पाउडर |
उच्चतम घनत्व वाले उच्च गुणवत्ता वाले नाइओबियम स्पटरिंग लक्ष्य युसेंग मेटल की विशेषता हैं। अर्धचालक में उपयोग के लिए, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी), भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी), प्रदर्शन, और ऑप्टिकल अनुप्रयोग, उच्चतम शुद्धता (99.999 प्रतिशत) और सबसे छोटे औसत अनाज आकार के साथ नाइओबियम (एनबी) स्पटरिंग लक्ष्य उपलब्ध हैं। 820 मिमी तक समतल लक्ष्य आयामों और विन्यास के साथ, पतली फिल्म के लिए हमारे उद्योग-मानक स्पटरिंग लक्ष्य मोनोब्लॉक या बंधुआ उत्पादों के रूप में उपलब्ध हैं। इनमें होल ड्रिल लोकेशन, थ्रेडिंग, बेवलिंग, ग्रूव्स और बैकिंग हैं, जिन्हें पारंपरिक स्पटरिंग डिवाइस और अत्याधुनिक प्रोसेस उपकरण, जैसे सौर ऊर्जा या ईंधन सेल और फ्लिप-चिप अनुप्रयोगों के लिए बड़े क्षेत्र की कोटिंग दोनों के साथ काम करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसके अलावा, अनुसंधान-आकार के लक्ष्यों के साथ कस्टम आकार और धातुएं बनाई जाती हैं। एक्स-रे फ्लोरेसेंस (एक्सआरएफ), ग्लो डिस्चार्ज मास स्पेक्ट्रोमेट्री (जीडीएमएस) और इंडक्टिवली कपल्ड प्लाज्मा जैसी सबसे प्रभावी पद्धतियों का उपयोग सभी लक्ष्यों का आकलन करने के लिए किया जाता है। आईसीपी)। "स्पटरिंग" लक्ष्य सामग्री को आयनिक बमबारी के माध्यम से एक निर्देशित गैसीय/प्लाज्मा चरण में नियंत्रित निष्कासन और रूपांतरण है, लगभग किसी भी आकार के आयताकार, गोलाकार या अंडाकार लक्ष्यों के अलावा, हम इस सीमा के बाहर भी लक्ष्य पेश कर सकते हैं।
सामग्री बनाने के लिए क्रिस्टलीकरण, ठोस अवस्था और अन्य अति उच्च शुद्धिकरण प्रक्रियाओं जैसे उच्च बनाने की क्रिया का उपयोग किया जाता है। अमेरिकी तत्व व्यापार, शिक्षा, और अभिनव, विशिष्ट प्रौद्योगिकी में उपयोग के लिए अद्वितीय रचनाएं बनाने में माहिर हैं। युशेंग धातु औद्योगिक, शैक्षणिक और मालिकाना उपयोगों के लिए अद्वितीय रचनाएं बनाने में माहिर हैं।इसके अलावा, युसेंग धातु किसी भी दुर्लभ पृथ्वी धातु और अधिकांश अन्य अत्याधुनिक सामग्रियों को रॉड, बार, या प्लेट के रूप में, साथ ही साथ विभिन्न मशीनी आकृतियों में और नैनोकणों, समाधानों और ऑर्गेनोमेटेलिक्स जैसी अन्य तकनीकों का उपयोग करके ढाला जा सकता है। रॉड, डिस्क, कणिकाओं, सिल्लियों, छर्रों और बिट्स के उत्पादन के अलावा, हम नाइओबियम भी बनाते हैं। अनुरोध के अनुसार, अतिरिक्त आकार उपलब्ध हैं।

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