टा स्पटर लक्ष्य

युशेंग धातु टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य उत्पादन प्रक्रिया
युशेंग मेटल के टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य उत्पादों को ईबी इलेक्ट्रॉन बमबारी, रोलिंग और एनीलिंग प्रक्रियाओं का उपयोग करके टैंटलम सिल्लियों से संसाधित किया जाता है। इस प्रक्रिया द्वारा बनाए गए लक्ष्यों में एक समान क्रिस्टल संरचना, बनावट और ऊर्जा वितरण और आंतरिक संरचना अच्छी होती है।

हाल के वर्षों में, आईसी (एकीकृत सर्किट) उद्योग के पैमाने का विस्तार जारी रहा है, और चिप प्रक्रिया प्रौद्योगिकी भी उच्च घनत्व की दिशा में विकसित हुई है। टैंटलम को अक्सर इसकी मजबूत रासायनिक स्थिरता के कारण तांबे कनेक्शन प्रक्रिया में प्रसार बाधा परत के लिए स्पटर कोटिंग सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है। टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्यों की एक समान सूक्ष्म संरचना का स्पटरिंग प्रदर्शन पर सीधा प्रभाव पड़ता है।

Tantalum targets require fine and uniform grains, randomly dispersed grain orientation, and excellent film manufacturing performance. However, due to the properties of tantalum, a microstructure can easily form during cold working with a core orientation of 111 (111>/ND) and a surface orientation of 100 (100>/रा)। पतली फिल्मों का निर्माण करते समय, स्पटरिंग दर लक्ष्य मोटाई के आधार पर बदलती है, जो स्पटरिंग प्रक्रिया की स्थिरता को प्रभावित करती है।

टा स्पटरिंग लक्ष्य सिद्धांत

टैंटलम का उपयोग अक्सर पतली ऑक्साइड बनाने की क्षमता और ऑक्साइड परत की सुरक्षात्मक प्रकृति के कारण इलेक्ट्रोलाइटिक कैपेसिटर के उत्पादन में किया जाता है। टैंटलम जमाव के शुरुआती चरणों में वाष्पीकरण का उपयोग किया गया था, लेकिन 1960 के दशक के अंत में स्पटर कोटिंग जैसी भौतिक वाष्प जमाव तकनीक पतली फिल्म जमाव के लिए बेहतर तरीकों के रूप में उभरी, उन्होंने वाष्पीकरण की जगह ले ली।

भौतिक वाष्प जमाव प्रक्रिया में, आयनित आर्गन परमाणु लक्ष्य को प्रभावित करने के लिए विद्युत चुम्बकीय यांत्रिकी का उपयोग करते हैं, धातु लक्ष्य परमाणुओं को गिरा देते हैं, और धातु लक्ष्य परमाणु एक पतली फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं।

टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य

टैंटलम लक्ष्य

युशेंग धातु उत्पादन उपकरण

युशेंग मेटल के पास गलाने, फोर्जिंग, हॉट रोलिंग, कोल्ड रोलिंग, फिनिशिंग से लेकर तैयार सामग्री तक वैज्ञानिक अनुसंधान, उत्पादन, परीक्षण, बिक्री और सेवा प्रणालियों का एक पूरा सेट है। इसमें एक 350KW इलेक्ट्रॉनिक ईस्ट बॉम्बार्डमेंट फर्नेस, एक 2000T हाइड्रोलिक प्रेस, एक 1700 मिमी वैक्यूम एनीलिंग फर्नेस, और एक 42KW और दो 15KW प्रिसिजन फोर्जिंग मशीनें, 14 फिनिशिंग स्ट्रिप मिल्स, LDD120, LDD-40, LDD{8} हैं। }, एलडीडी -8 डबल-लाइन पाइप रोलिंग मिल, 2- रोल 500टी ब्लैंकिंग मिल, 4 कोल्ड रोलिंग मिल्स, 6 कोल्ड रोलिंग मिल्स मशीन, 15 किलोवाट डबल-साइडेड वायर ड्राइंग मशीन, बेलनाकार ग्राइंडर, छीलने की मशीन, सतह ग्राइंडर और उपकरणों की एक श्रृंखला।

टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य का अनुप्रयोग

टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री दबाव-संसाधित टैंटलम शीट से बनी होती है और इसमें उच्च शुद्धता, बारीक दाने, अच्छी पुनर्संरचना संरचना और अच्छी तीन-अक्ष स्थिरता की विशेषताएं होती हैं।
टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक और सेमीकंडक्टर उद्योगों में व्यापक रूप से उपयोग किए जाते हैं। इनका उपयोग मुख्य रूप से कैथोड स्पटरिंग कोटिंग्स, उच्च वैक्यूम सक्शन सक्रिय सामग्री, ऑप्टिकल फाइबर, सेमीकंडक्टर वेफर्स, एकीकृत सर्किट आदि के स्पटरिंग जमाव के लिए किया जाता है। वे पतली फिल्म प्रौद्योगिकी का एक महत्वपूर्ण हिस्सा हैं।

 

बाओजी युशेंग मेटल टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेडदुर्लभ सोने के टैंटलम, नाइओबियम, वैनेडियम, ज़िरकोनियम और हेफ़नियम प्रसंस्करण भागों का वैश्विक आपूर्तिकर्ता है। यह मुख्य रूप से तार, छड़, प्लेट, ट्यूब, रिंग, क्रूसिबल आदि और अन्य गैर-मानक विशेष प्रसंस्करण भागों का उत्पादन करता है। हम नियमित रूप से अपनी कंपनी के उत्पादों और सामग्री विषयों से संबंधित जानकारी जारी करेंगे, जिसमें सामग्री प्रौद्योगिकी अनुसंधान और विकास, सामग्री उपलब्धियों के औद्योगीकरण, सामग्री उत्पादों के अनुप्रयोग और प्रचार, सामग्री उद्योग समूह और सामग्री उद्योग पारिस्थितिकी की पूरी श्रृंखला को शामिल किया जाएगा। किसी भी समय हमसे संपर्क करने के लिए आपका स्वागत है।

 

 

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